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东莞创力 二氧化硅抛光液 纳米级精抛液、CMP抛光液、硅片抛光液、锗片抛光液、精抛液
纳米级抛光液：
主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别用于特别适用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。
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型号 |
平均粒径(NM) |
Sio2含量(%) |
PH值 |
比重 |
密度(g/ml) |
稀释比例 |
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50 |
40.0 |
40 |
10.2 |
1.30 |
1. 15±0.05 |
<1:1~20 |
|
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80 |
72.0 |
40 |
10.2 |
1.30 |
1. 15±0.05 |
<1:1~20 |
|
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100 |
100 |
40-41 |
10.5-11 |
1.5 |
1.20±0.05 |
<1:1~20
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去除率：2-5um/小时
包装规格：20KG/桶 、25KG/桶
储存方式：存放温度为5℃-35℃，避免阳光照射；
保质期限：碱性抛光液保质期为一年。
纳米级研磨液应用领域：
- 1.金属类材料，如不锈钢，铝件，锌合金
- 2.LED蓝宝石衬底，表镜片，晶体，宝石
- 3.光学镜片，光学玻璃，石英
- 4.半导体，砷化镓，氮化镓，碳化硅，单晶硅，磷化铟
- 5.光纤以及光伏企业
- 6陶瓷，陶瓷基板，氧化铝陶瓷，氧化锆陶瓷，氮化铝基板，手机陶瓷盖板，穿戴陶瓷